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光刻线宽不断减小是光刻机发展的趋势, 光刻线宽已从21 世纪初的90 nm、65 nm 逐步发展到了22 nm, 甚至更小线宽. 与之对应, 光刻机曝光光学系统制造对检测精度的要求也随之不断提高. ......

人类对微观世界的探索永无止境, 超高分辨、高灵敏光学检测方法与技术是获取物质微观信息的重要手段. 同时, 高精度光学检测技术也是高精度光学加工、高精密3D 打印的基础, 而高精度光学加工是高端光刻机制造、引力波探测等领域的核心. ......

根据全球半导体发展路线图ITRS, 光刻机的线宽目前正从几十纳米逐步向十几纳米推进, 为满足光刻机曝光光学系统的超高精度的检测需求, 国外顶尖光学公司和研究机构已实现了亚纳米nm 甚至皮米pm 量级光学表面检测技术, 主要代表国家为德国、日本、美国. ......

钢球面缺陷检测是一项具有高度重复性、复杂性和智能性的工作。常用的钢球表面缺陷检测的技术有：声发射法、光电检测法、涡流探伤法、超声波探伤法以及地磁场检测法 ......

在表面贴装 印刷电路板制造业，元件的微型化和密集化是一直 以来的发展趋势。由此而产生的锡膏粘污、元件偏 移等质量缺陷依靠人工已经不可能对分布细密的 元件进行可靠而一致的检测，并且保存精确的检测 记录。 ......